根據(jù)鍍膜原理的不同，真空鍍膜機可分為物理氣相沉積（PVD）和化學(xué)氣相沉積（CVD）兩大類別，不同類型的設(shè)備適配不同的生產(chǎn)需求。
物理氣相沉積類鍍膜機應(yīng)用廣泛，常見的有蒸發(fā)鍍膜機、濺射鍍膜機和離子鍍膜機。蒸發(fā)鍍膜機通過加熱使鍍膜材料汽化，粒子直接沉積在工件表面，適合制備金屬膜和簡單的介質(zhì)膜，常用于光學(xué)元件和裝飾鍍膜。濺射鍍膜機則利用高能粒子轟擊靶材，使靶材原子濺射出來并沉積成膜，膜層附著力更強，可鍍制合金膜、化合物膜，在刀具鍍膜、半導(dǎo)體芯片制造中發(fā)揮重要作用。離子鍍膜機結(jié)合了蒸發(fā)與濺射的特點，鍍膜過程中離子參與沉積，膜層質(zhì)量更高，適用于耐磨、耐腐蝕涂層的制備。
化學(xué)氣相沉積類鍍膜機則是通過氣體原料在工件表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)形成薄膜，適合制備厚度較大、成分復(fù)雜的薄膜，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)的薄膜沉積和硬質(zhì)涂層制備。
