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3納米官宣!
來源: | 作者:雋思半導體設備部 | 發(fā)布時間: 2022-07-01 | 1105 次瀏覽 | 分享到:

三星電子首次實現GAA“多橋-通道場效應晶體管”(簡稱: MBCFET Multi-Bridge-Channel FET)應用打破了FinFET技術的性能限制,通過降低工作電壓水平來提高能耗比,同時還通過增加驅動電流增強芯片性能。


三星首先將納米片晶體管應用于高性能、低功耗計算領域的半導體芯片,并計劃將其擴大至移動處理器領域。


相較三星5納米(nm)而言,優(yōu)化的3納米(nm)工藝,性能提高23%,功耗降低45%,芯片面積減少16%.


2022年6月30日,作為先進的半導體技術廠商之一的三星電子宣布, 基于3nm全環(huán)繞柵極(Gate-All-AroundT,簡稱 GAA)制程工藝節(jié)點的芯片已經開始初步生產。